武汉理工大学研究遭遇质疑：XRD图谱重复引发学术争议

引言：学术研究的严谨性再度受到挑战

在科学研究领域，数据的准确性和可靠性是评估研究价值的基石。最近，《Journal of SolGel Science and Technology》上发表的一篇题为“The impact of aluminum oxide deposition on the hightemperature resistance of silica aerogels”的论文引发了学术界的广泛关注。该研究由武汉理工大学材料科学与工程学院的Shuai Gao(高帅)、Meixu Han、Jinwen Pan、Yang Zhong及Hongyi Jiang(姜鸿义，通讯作者)共同完成。然而，由于论文中XRD图谱的重复问题，这项研究的可信度受到质疑。

争议焦点：重复的XRD图谱

在2025年3月，评论者Archasia Belfragei指出，这篇论文中的图6a显示了两个噪声信号完全相同的XRD图谱。这一发现引起了广泛的讨论，并促使读者质疑研究数据的真实性和可靠性。

消息来源

https://pubpeer.com/publications/5600B9219F62554EC7015BBBBBB4F3#1

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